laser BAT
Dự án laser BAT: Tương lai sáng cho công nghệ lithography EUV
Phòng thí nghiệm Quốc gia Lawrence Livermore (LLNL) đang phát triển một hệ thống laser petawatt tiên tiến, hứa hẹn có thể làm cách mạng hóa ngành sản xuất chip. Công nghệ laser đột phá này, thuộc dự án laser BAT trị giá 12 triệu USD, mục tiêu sẽ hiệu quả gấp mười lần so […]
Truy cập không giới hạn bài viết